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電子半導體行業用純凈水設備

電子半導體行業用純凈水設備

  • 電子半導體行業用純水設備

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        在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。河南萬達環保生產的超純水設備用于硅片生產等電子半導體行業,能滿足客戶的用水要求。

電子半導體行業用純水設備工藝介紹:

1.原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→加藥裝置→精密過濾器→高壓泵1→一級反滲透→中間水箱→高壓泵2→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2.原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→加藥裝置→精密過濾器→高壓泵1一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

河南萬達環保電子半導體行業用純水設備產品特點:

1.連續運行產水質穩定品質更佳。
2.系統運行可靠性穩定。
3.運行成本低。
4.占地面積小。
5.自動化程度高。
6.操作及維護簡單,無需接觸酸堿。
7.使用安全及環境良好。
8.無污水排放,無環境污染。

河南萬達環保電子半導體行業用純水設備產品參數:

1.電導率:2-10μS/cm(25℃)
2.PH值:6.5-9
3.水溫度:5~35℃
4.總硬度:<0.5ppm
5.有機物:<0.5 ppm,TOC為零
6.氧化物:≤0.05ppm
7.鐵、錳:<0.01ppm
8.二氧化硅:<0.05 ppm
9.二氧化碳:<5ppm

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